脫硝氨逃逸系統(tǒng)包括預處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜技術及可調諧半導體激光吸收光譜技術；紫外差分吸收光譜技術原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續(xù)光譜做算法分析，可同時測量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術已經(jīng)應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測領域。
脫硝氨逃逸且易于安裝，特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過程氣體排放監(jiān)測，包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。
脫硝氨逃逸形成及危害：
1、氨逃逸的形成：
在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃或后燃NOX 控制技術的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法，但是無論應用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應器內注入氨與氮氧化物發(fā)生反應，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應區(qū)的空間分布便可以化的降低NOX 排放。
氨注入的過少，就會降低還原轉化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導致NH3逃逸出反應區(qū)，逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預熱器扇面上，會造成嚴重的設備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴重的問題。
2、氨逃逸的危害：
a、逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環(huán)境污染；
b、氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活和堵塞，大大縮短催化劑壽命；
c、逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；
d、過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊無法銷售。
魯ICP備19037344號-4 管理登陸 技術支持：化工儀器網(wǎng) GoogleSitemap